Dramatic impact of pressure and annealing temperature on the properties of sputtered ferroelectric HZO layers - 3eFERRO Accéder directement au contenu
Article Dans Une Revue APL Materials Année : 2019

Dramatic impact of pressure and annealing temperature on the properties of sputtered ferroelectric HZO layers

Jordan Bouaziz
Pédro Rojo Romeo
Nicolas Baboux
Raluca Negrea
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hal-02273286 , version 1 (28-08-2019)

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Citer

Jordan Bouaziz, Pédro Rojo Romeo, Nicolas Baboux, Raluca Negrea, Lucian Pintilie, et al.. Dramatic impact of pressure and annealing temperature on the properties of sputtered ferroelectric HZO layers. APL Materials, 2019, 7 (8), pp.081109. ⟨10.1063/1.5110894⟩. ⟨hal-02273286⟩
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